半導體製造業急需先進的超純水製造自動化控制系統。針對半導體製造的關鍵需求而設計，半導體晶圓製程每片需消耗 4-5 立方米超純水，水質純淨度須達 99.99% 以上（電阻率 ≥18.2 MΩ·cm，TOC ＜1 ppb）始能滿足製程要求。以符合日益嚴格的環保法規與水資源稀缺挑戰。為半導體廠複雜多變的廢水流況設計， 透過實時監測、預測性維護與智慧自動控制，可達成 65-75% 的廢水回收率，實現每滴水重複利用 4 次以上，同時確保超純水質標準（99.99% 純淨度），大幅降低營運成本、能源消耗與環境衝擊，為客戶提供完整的一站式整合解決方案。